本产品主要应用于12英寸集成电路（IC）领域低温退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，兼容多类型Wafer传输，并具有稳定的机台表现，Uptime高。工艺处理过程实现了高度自动化，具有可靠的氢气工艺及处理能力。其工艺覆盖率高，广泛应用于集成电路、先进封装等领域。
