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Cygnus Capella SiO

等离子体增强原子层薄膜沉积系统

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Cygnus Capella SiO 等离子体增强原子层薄膜沉积系统
Cygnus Capella SiO PEALD System
Cygnus Capella SiO产品是一款针对硅通孔(TSV)氧化硅薄膜填充的化学气相沉积设备,适用于集成电路、先进封装、新兴应用与科研领域,可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。该系统采用标准化的传输系统和?榛墓ひ涨皇疑杓,配置灵活、工艺窗口宽、功能集成度高,各项工艺技术指标均达到国际先进水平。
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产品应用
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