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    iTops A230Ⅱ

    PVD AlN铝溅射系统

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    iTops A230Ⅱ PVD AlN铝溅射系统
    iTops A230Ⅱ PVD AlN Sputter System
    iTops A230 Ⅱ主要用于2/4/6英寸AlN缓冲层沉积工艺。该机台为单工艺腔室设备，配备传输腔室和冷却腔室。AlN设备具有占地面积。峁辜虻ィ僮髁榛，维修方便，运营成本低等优势。
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